主要技术指标

高真空离子溅射/蒸镀一体化镀膜机；金钯；铂钯。

测试功能

1、微处理器数字控制方式，可预设参数。145mm大触摸屏全图像用户界面。

2 2、全自动抽真空和全自动操作的高真空沉积镀膜系统。

3 3、工作腔室。硼硅酸盐玻璃150mm（内径）×127mm（高）；具有安全防护罩。

4、样品台。直径50mm的drop-in落入式快换样品台。

5、挡板机构。距钯面8.5mm的自动挡版。

6、真空系统。50L/m旋转机械泵+70L/s涡轮分子泵，极限真空度为10^-5mbar。

7、真空规。皮拉尼真空规，测量范围1000mbar到10^-4mbar。

8、溅射工作真空范围5×10^-3到5×10^-1mbar。

9、溅射电流0-150mA。

10、溅射时间。可以预设，一次真空条件下总溅射时间可设置长达60min。

11、溅射靶材配有金钯和铂钯。

12、碳蒸发头。采用直流电源蒸发，配置直径3.05mm碳棒蒸发头。

1 13、蒸发电流1-90A