2006年1月至今，在开云平台首页 物理学院工作，为开云平台首页 三束材料改性教育部重点实验室固定研究人员。作为主要参与者，参加了开云平台首页 三束材料改性教育部重点实验室联合申请的常州市重大公共技术服务平台—“材料表面工程技术与装备创新服务平台”建设。在国内外相关专业领域学术期刊上发表论文40余篇，主持完成国家自然科学青年基金1项，先后参加完成科技部国家重点基础研究计划（973前期预研）1项，国家重点研发计划1项，省级项目3项。现为“Applied Surface Science ”、“Thin Solid Film”、“Surface & Coatings Technology”、“Vacuum" 等国际学术期刊审稿人。

2007年至今已指导硕士研究生8人，协助指导博士生2人。毕业生就业去向多是英特尔、华为、京东方、上方电子、中芯国际等相关的高新企业及研究机构等。

主持或参加科研项目（课题）及人才计划项目情况（按时间倒序排序）：

1. 国家重点研发计划新能源汽车重点专项，2016YFB0101318，高稳定性高品质金属双极板表面改性量产工艺开发，2016/07-2021/06，在研，参加

2. 中央高校基本科研业务费专项，DUT16ZD207，燃料电池金属双极板改性层材料及其制备技术，2016/01-2017/12，已结题，主持

3. 中央高校基本科研业务费专项，DUT11LK44，基于微晶硅/纳米Ag多层薄膜中表面等离子体陷光特性研究，2011/01-2012/12，已结题，主持

4. 辽宁省教育厅科学技术研究，2008049，氧化铪基高介电薄膜的制备，2008/01-2010/12，已结题，参加

5. 国家重点基础研究发展计划(973预研),2007CB616902，掺杂ZnO结构稳定性及其相关能带结构的基础科学问题，2007/07-2009/12，已结题，参加

6. 国家自然科学基金青年项目，10605009，反应活性等离子体对功能薄膜的生长行为和薄膜质量的影响，2007/01-2009/12，已结题，主持

近年来发表的研究论文

1. X.Y.Yi,C.Y.Ma*, ,F.Yuan,N.Wang,F.W.Qin, B.C.Hu, Q.Y.Zhang, Structural, morphological,photoluminescence and photocatalytic properties of Gd-doped ZnO films, Thin Solid Films，2017，636：339 ~345

2. X.Q.cheng,C.Y.Ma*, X.Y.Yi, F.Yuan, Y.Xie, J.M.Hu, B.C.Hu, Q.Y.Zhang, Structural, morphological, optical and photocatalytic properties of Gd-doped TiO₂films,Thin Solid Films，2016，615：13 ~ 18

3. D.Q.Shi, W.Xu, C.Y.Miao,C.Y.Ma, C.S.Ren, W.Q.Lu, Q.Y.Zhang*, A high-activity nitrogen plasma flow source for deposition of silicon nitride films,Surface and Coatings Technology，2016，294：194~200

4. D.Q.Shi, B.C.Hu, W.Xu, X.N.Li,C.Y.Ma, Q.Y.Zhang*, Bright luminescence in amorphous hydrogenated silicon-nitride quantum-dot films prepared by a special designed PECVD system, Journal of Luminescence, 2016, 175: 67~70

5. Q.Y.Zhang*, J.Shaibo, J.Ju, M.Liu, S.Cheng, Y.J.Ma, J.Y.Xiao, X.N.Jiang,C.Y.Ma, Rehabilitation of MgO(001) substrate surface for growth of single cryatal LaBaCo₂O_5+δfilms by magnetron sputtering, Crystal Growth and Design, 2016,16,4272~4277

6. D.Q.Shi, W.Xu, C.Y.Miao,C.Y.Ma, C.S.Ren, W.Q.Lu, Q.Y.Zhang*, A high-activity nitrogen plasma flow source for deposition of silicon nitride films, Surface and Coatings Technology，2016，294：194~200

7. D.Q.Shi, B.C.Hu, W.Xu, X.N.Li,C.Y.Ma, Q.Y.Zhang*, Bright luminescence in amorphous hydrogenated silicon-nitride quantum-dot films prepared by a special designed PECVD system, Journal of Luminescence, 2016, 175: 67~70

8. Q.Y.Zhang*, J.Shaibo, J.Ju, M.Liu, S.Cheng, Y.J.Ma, J.Y.Xiao, X.N.Jiang,C.Y.Ma, Rehabilitation of MgO(001) substrate surface for growth of single cryatal LaBaCo2O5+δ films by magnetron sputtering, Crystal Growth and Design, 2016,16,4272~4277

9. Chunyu Miao, Dequan Shi,Chunyu Ma, Chunsheng Ren, Wenqi Lu, Qingyu Zhangn, Chao Zhang, Zhong Yi, Mode transition and related discharge phenomena of a tube plasma source oprating in low pressure pure nitrogen atmosphere, IEEE TRANSACTIONS PLASMA SCIENCE, 2015, 43(2):544~551

10. Qiang Tao, Shuai Li,Chunyu Ma, Hun Liu, Qingyu Zhang*, A highly sensitive and recyclable SERS substrate based on Ag-nanoparticle-decorated ZnO nanoflowers in ordered arrays, Dalton Transactions, 2015, 44:3447~3453

11. H.H.Zhang,C.Y.Ma*, Q.Y.Zhang, Scaling behavior and structure transition of ZrO₂films deposited by RF magnetron sputtering,Vacuum, 2009, 83:1311~1316

12. C.Y.Ma*, W.J.Wang, S.L.Li, C.Y.Miao, Q.Y.Zhamg, Multifractal, structural, and optuical properties of Mn-doped ZnO films, Applied Surface Science, 2012, 261:231~236

13. C.Y.Ma*, Q.Y.Zhang, Interfacial layer growth of ZrO₂films on silicon, Vacuum, 2008, 82:847~851

14. C.Y.Ma,P.Briois*, J.BÖhlmark, F.Lapostolle, A.Billard, La_9.33Si₆O₂₆electrolyte thin films for IT-SOFC application deposited by a HIPIMS/DC hybrid magnetron sputtering process, Ionics, 2008,14:471~ 476

15. C.Y.Ma*, F.Lapostolle, P.Briois, Q.Y.Zhang, Effect of O₂gas partial pressure on structures and dielectric characteristics of rf sputtered ZrO₂thin films, Applied Surface Science, 2007, 253:8718~8724