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专利基本信息
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名称 一种薄基片变形的测量方法与装置 专利类型 发明 申请号 CN201310187846.6 申请日 2013.05.18 授权公告日 2016.01.06 专利权人 开云平台首页 发明人 康仁科;董志刚;刘海军;佟宇;郭东明 法律状态 有效 专利说明书 全文.pdf 摘要 本发明一种薄基片变形的测量方法与装置，属于物体变形的测量方法与装置领域，涉及对薄基片变形的测量方法与装置。该测量方法是将被测量的薄基片浸没于密度与之相近的液体中，采用固定销限定薄基片在液体中水平位置，在空气与液体交界处放置高平面度和平行度的透明平板，透明平板上表面在液体表面之上，透明平板下表面在液体表面之下。采用光学位移传感器扫描测量薄基片的表面位移。测量装置中，光学位移传感器通过安装板固定在竖直平移台上，薄基片由三个锥形销支撑限位，整体固定于溶液中。本发明有效减少薄基片测量过程中重力附加变形的影响，可准确测量厚度较小而平面尺寸较大的薄基片变形，测量结果准确可靠。 描述
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